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电镀电源
电镀电源的原理与组成：电镀电源是将工频交流电变换为不同电压、频率和波形的直流电设备。在晶闸管整流器中主要应用“整流”技术，在高频开关电源中既应用“整流”技术又应用“逆变”技术。电镀电源主要由主电路和控制电路组成。
主电路主要包括主变压器、功率整流器件和一些检测、保护装置等。电镀电源中的主变压器是将交流电源电压降低为电镀工艺所需要的电压值。晶闸管整流器中使用的是工频(50Hz)变压器，高频开关电源中使用的是高频(10～50kHz)变压器。检测装置包括电压表、电流互感器等。
保护装置主要是用于功率整流器件的过流保护。控制电路主要包括晶闸管或IGBT等的触发控制电路，电源的软启动电路，过流、过压保护电路，电源缺相保护电路等。
电镀电源-概述:
适用于电镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、镀铜、镀镉等有色金属；镀金、镀银等贵重金属的精密电镀。
1、降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。
2、改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。
硫酸阳极氧化工艺简单，溶液稳定，操作方便，允许杂质含量范围较宽，电能消耗少，成本低，且几乎可以适用于铝及各种铝合金的加工，所以在
国内已得到了广泛的应用。
下表为典型的阳极氧化工艺：配方及工艺条件 直流法
硫酸（g/L） 160～180
铝离子Al3+（g/L） <25
温度（℃) 18～22
阳极电流密度（A/dm2） 1.2～1.5
电压（V） 16～20
时间（min） 20～40
搅拌 压缩空气 槽液循环
阴极面积/阳极面积 1.5：1 影响氧化膜质量的因素主要有：①硫酸浓度：通常采用15%～20%。浓度升高，膜的溶解速度加大，膜的生长速度降低，膜的孔隙率高，吸附力强，富有弹性，染色性好（易于染深
色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸浓度，则氧化膜生长速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。
所以，用于防护，装饰及纯装饰加工时，多使用允许浓度的上限，即20%浓度的硫酸做电解液。
1.3.3 双向脉冲功能。正负脉冲频率、占空比、正反向输出时间均可独立调节，使用灵活、方便。配合硬铬电镀工艺，可获得不同物理性能的镀层。
1.3.4 直流叠加功能。输出正反向脉冲电流的同时，由同一台电源叠加输出一纯直流成分，更拓宽了脉冲电源的使用范围及用途。
近几年来，国产多功能脉冲电源技术已趋于成熟，其中脉冲波形垂直程度，波形平稳程度、稳定性、抗干扰性等指标达到甚至超过了国外水平。
直流电源波形对电镀质量有突出的影响，例如：高频率定脉宽高频稳压/稳流脉冲电源电镀时会产生特殊效应，这也是普通直流电源电镀无法达到的效果，有些现象还不能用常规电化学理论来加以解释。而直流波形对电镀沉积的影响目前还难以从理论上进行预测，只能通过大量的试验来作相对比较，筛选出适宜的波形。2 电镀电源对电镀工艺的影响
2.1 镀铬
各类电镀工艺中，镀铬是受电源波形影响大的镀种之一。镀铬必须采用低纹波直流电源，否则光亮范围窄，镀层易发花、发灰，这一点已为不少人认同，但实践中仍有因对其认识不足，往往由于纹波系数过大影响套铬质量而束手无策的事时有发生。因此，电镀电源的选择就更显重要。
对于经常使用反向电解的电镀硬铬生产，需要电源极性换向装置。简单的方法是使用手动换向开关。由于电流很大，开关通、断时会形成较大的电火花，开关很容易损坏。将触点浸入变压器油中可以延长使用寿命。可控硅整流器实现换向比较容易，由于是无触点换向，不会产生火花腐蚀。如电流变化不大时，可考虑使用可控硅极换向装置。
电源波形对镀铬的影响较大。而且往往容易被操作者忽视。如某厂小件镀装饰铬，覆盖能力非常差，反复调整镀液中硫酸与铬酐的比值，仍无效。经现场查验，采用1000A老式可控硅整流器，且平均电流仅200A左右，负荷率很低，显然输出纹波系数太大。换接一台双反星形输出的硅整流器，镀铬即转为正常。另有某厂镀铬上午生产正常，
下午即出现装饰铬局部发灰，无法生产，怀疑镀液故障，反复加硫酸、碳酸钡调整一两天，均无法解决。
分析原因，镀液成分不可能突变，怀疑硅整流管有损坏造成波形残缺而增大纹波。
用钳形电流表测定各整流管电流，发现断路2支，更换新管后，故障。
镀微裂纹硬铬，输出纹波过大时，裂纹不细密且分布不均匀。
采用脉冲电镀铬，也可得到优良的镀层。研究表明，当采用工艺条件为：频率1000Hz，占空比通：断=1/5，平均电流密度40A/dm2，30度温度，获得的镀铬层耐磨性提高三倍;耐腐蚀性提高5倍。
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