1.3.4 直流叠加功能。输出正反向脉冲电流的同时，由同一台电源叠加输出一纯直流成分，更拓宽了脉冲电源的使用范围及用途。
近几年来，国产多功能脉冲电源技术已趋于成熟，其中脉冲波形垂直程度，波形平稳程度、稳定性、抗干扰性等指标达到甚至超过了国外水平。
直流电源波形对电镀质量有突出的影响，例如：高频率定脉宽高频稳压/稳流脉冲电源电镀时会产生特殊效应，这也是普通直流电源电镀无法达到的效果，有些现象还不能用常规电化学理论来加以解释。而直流波形对电镀沉积的影响目前还难以从理论上进行预测，只能通过大量的试验来作相对比较，筛选出适宜的波形。

2 电镀电源对电镀工艺的影响
2.1 镀铬
各类电镀工艺中，镀铬是受电源波形影响大的镀种之一。镀铬必须采用低纹波直流电源，否则光亮范围窄，镀层易发花、发灰，这一点已为不少人认同，但实践中仍有因对其认识不足，往往由于纹波系数过大影响套铬质量而束手无策的事时有发生。因此，电镀电源的选择就更显重要。
对于经常使用反向电解的电镀硬铬生产，需要电源极性换向装置。简单的方法是使用手动换向开关。由于电流很大，开关通、断时会形成较大的电火花，开关很容易损坏。将触点浸入变压器油中可以延长使用寿命。可控硅整流器实现换向比较容易，由于是无触点换向，不会产生火花腐蚀。如电流变化不大时，可考虑使用可控硅极换向装置。
电源波形对镀铬的影响较大。而且往往容易被操作者忽视。如某厂小件镀装饰铬，覆盖能力非常差，反复调整镀液中硫酸与铬酐的比值，仍无效。经现场查验，采用1000A老式可控硅整流器，且平均电流仅200A左右，负荷率很低，显然输出纹波系数太大。换接一台双反星形输出的硅整流器，镀铬即转为正常。另有某厂镀铬上午生产正常，下午即出现装饰铬局部发灰，无法生产，怀疑镀液故障，反复加硫酸、碳酸钡调整一两天，均无法解决。分析原因，镀液成分不可能突变，怀疑硅整流管有损坏造成波形残缺而增大纹波。用钳形电流表测定各整流管电流，发现断路2支，更换新管后，故障消除。
镀微裂纹硬铬，输出纹波过大时，裂纹不细密且分布不均匀。
采用脉冲电镀铬，也可得到优良的镀层。研究表明，当采用工艺条件为：频率1000Hz，占空比通：断=1/5，平均电流密度40A/dm2，30度温度，获得的镀铬层耐磨性提高三倍;耐腐蚀性提高5倍。
2.2 光亮酸性镀铜
一般情况下，光亮镀铜都有一个规律：从赫尔槽试片上看，阴极电流密度越大的地方，镀层光亮整平性越好;电流密度越低，光亮整平性越差。试图扩展低电流密度区光亮范围，始终是电镀工作者不断追求的目标。需要从光亮剂、工艺配方与工艺条件、设备等多方面入手。光亮酸性镀铜是迄今光亮整平性好的镀种之一。但在实践中，采用同样的配方、工艺条件，使用相同的光亮剂，得到的光亮整平性与光亮范围，却可能出现较大差异。究其原因，与所用直流电源输出纹波系数大小有很大关系。据有关资料，二十多年前，国内在开发MN系列光亮酸性镀铜添加剂时就已证实。规律是：输出纹波系数越小，镀层光亮整平性越好，光亮电流密度范围越宽。而且，纹波越小，光亮剂的用量也会越小。遗憾的是时至今日并未引起电镀工艺技术人员的重视。